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供應(yīng) 化工機(jī)械太陽能硅片雷士超聲波清洗設(shè)備  |
規(guī) 格: |
振板式 |
價 格: |
6560/ |
數(shù) 量: |
228 |
交貨地: |
無錫 |
發(fā)布時間: |
2025-03-11 |
有效期: |
3天 |
備 注: |
化工機(jī)械太陽能硅片雷士超聲波清洗設(shè)備
一、本機(jī)構(gòu)成
超聲波發(fā)生器一臺
超聲波清洗機(jī)一臺
二、技術(shù)參數(shù)
整機(jī)重量: 40KG
超聲波振盒尺寸: 630*460*100mm
超聲波頻率: 40KHz
超聲波功率: 2400W
工作電壓: 220V ±10%
頻率: 50HZ
三、產(chǎn)品特性
該超聲波清洗機(jī)設(shè)備非常適用于工件表面易被空化,工件較薄、較脆、易損壞的場合使用,其產(chǎn)生的空化泡密度大,但轟擊力較弱,對臟污油漬程度大的物件不適合,但其較好的轟擊密度則是特種材料行業(yè)的首選超聲波清洗機(jī)。
四、清洗范圍
半導(dǎo)體硅片、太陽能電池硅片、晶體、PCB板、IC芯片轉(zhuǎn)接器、硅片、電子線路板、電腦主板、壓電陶瓷片、多晶硅、單晶硅等器件的生產(chǎn)加工、回收再利用等過程的清洗。
清洗原理
借助于表面活性劑的潤濕、滲透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在Si片表面的附著力削弱, 再施以加熱、超聲波等物理方法, 使沾污脫離 Si片表面, 而進(jìn)人清洗液中被乳化 、分散開。
五、產(chǎn)品優(yōu)點
1.清洗效果好,清潔度高且全部工件清潔度一致
2.清洗速度快,提高生產(chǎn)效率
3.不須人手接觸清洗液,安全可靠對深孔、細(xì)縫和工件隱蔽處亦清洗干凈
4.對工件表面無損傷
5.節(jié)省溶劑、熱能、工作場地和人工等。
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