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太倉(cāng)希德機(jī)械科汥有限公司

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供應(yīng) 水性漿料研磨分散設(shè)備 /研磨分散設(shè)備
規(guī)  格:
L25
價(jià)  格:
1000/
數(shù)  量:
999
 交貨地:
蘇州太倉(cāng)
發(fā)布時(shí)間:
2019-08-02
 有效期:
255天
備  注:
水性漿料研磨分散設(shè)備,碳納米管分散機(jī),導(dǎo)電漿料分散機(jī),電池正負(fù)極材料研磨分散均質(zhì)機(jī),碳納米管導(dǎo)電漿料高速分散機(jī),滿(mǎn)足國(guó)標(biāo)GB分散要求的分散機(jī),碳管水性漿料分散機(jī),NMP碳管漿料分散機(jī),5%固含量NMP漿料實(shí)驗(yàn)分散機(jī)


一、一般性水性漿料產(chǎn)品外觀為黑色液體漿料,狀態(tài)均勻,無(wú)明顯顆粒,有一定流動(dòng)性。漿料細(xì)度應(yīng)不超過(guò)10μm,碳管濃度稀釋至0.005%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))時(shí)的透光率應(yīng)不超過(guò)20%,漿料涂膜的體積電阻率應(yīng)不大于1.0Ω·cm等。


二、碳納米管分散難點(diǎn)


水性漿料分散,其實(shí)也就是所謂的納米級(jí)物料的分散,在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)姆稚⒃O(shè)備來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散的關(guān)鍵。


 


三、以下是SID希德實(shí)驗(yàn)室10L分散機(jī)的參數(shù),針對(duì)導(dǎo)電漿料研制出的高速分散設(shè)備


攪拌轉(zhuǎn)速范圍


50-500rpm


真空度


-0.08-0.08mpa


升降方式


手動(dòng)平衡型/電動(dòng)型


標(biāo)配均質(zhì)乳化機(jī)


SA50/50G


攪拌漿形式


刮壁式


可選攪拌漿


錨式/溶解式/葉片式


反應(yīng)釜


玻璃反應(yīng)釜/不銹鋼反應(yīng)釜


接觸物料材質(zhì)


SUS304/SUS316L/PTFE


電源


220V,50/60Hz


蕞小允許攪拌量


2000ml


蕞小允許乳化量


5000ml


允許乳化量


10000ml


工作溫度


120℃


可達(dá)到真空


-0.08Mpa


處理粘度


100,000CP


攪拌馬達(dá)功率


110W


攪拌速度范圍


10-500rpm


攪拌槳配置


錨式刮壁攪拌槳


刮板材質(zhì)


硅橡膠


        


 


可在實(shí)驗(yàn)室模擬在線工況進(jìn)行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無(wú)分散死角等特點(diǎn)。




四、水性漿料研磨分散設(shè)備適用工藝:


 


連續(xù)流處理,可對(duì)物料進(jìn)行循環(huán)處理,完成在線分散、乳化、均質(zhì)、混合。


 


五、設(shè) 備 參 數(shù)


 


功率500W


電源220V,50/60Hz


流量范圍 (H₂O)1-15L/min


蕞大處理粘度1000CP


速度范圍10000-28000rpm


溫度120℃


轉(zhuǎn)速顯示刻度/數(shù)顯轉(zhuǎn)速控制無(wú)級(jí)


接觸物料材質(zhì)SS316L、FKM


標(biāo)準(zhǔn)工作腔不銹鋼無(wú)夾套工作腔


標(biāo)準(zhǔn)工作頭20DG


機(jī)械密封材質(zhì)SiC、FKM、陶瓷


進(jìn)、出口外徑14(軟管接口)


工序類(lèi)型在線處理


底座材質(zhì)SS304


外形尺寸477×120×122


重量~6kg


包裝紙箱

聯(lián)系方法
 聯(lián)系人:
陸經(jīng)理
公  司:
太倉(cāng)希德機(jī)械科汥有限公司
地  址:
太倉(cāng)市沙溪鎮(zhèn)涂松村岳鹿路
電  話(huà):
13338684951
傳  真:
0512-53921536
手  機(jī):
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